本文標題："鉬絲相接觸的試樣衍射圖譜光學分析儀器,材料檢測顯微鏡"

鉬絲相接觸的試樣衍射圖譜光學分析儀器,材料檢測顯微鏡

高真空下的試驗

  低能電子衍射研究是在另外的管子內進行的，在所用的電子束
能量小于300電子伏的使用情況下，衍射圖譜對表面的情況是極
靈敏的，在兩種實驗中，裝置在與嵌入晶體后面空穴的鉬絲相接
觸的試樣都能夠用從屏蔽燈絲中出來的電子轟擊加熱，樣品也都
能夠以氬離子轟擊來清洗，氬氣允許通過一個大的吸氣管來消除
研磨，研究了幾個N型和P型的，電阻率在0.3-2歐姆-厘米范圍內
的商業級晶體。

  以已用于若干其他材料的離子轟擊清洗過程來清洗樣品，這個
過程包括：在1000℃高真空下加熱SiC晶體約100小時除去吸附的
氣體，樣品再經幾次這樣的循環，即在約500電子太、100微安/
厘米的氬離子轟擊、加熱、使轟擊所損壞的表面退火，并且去除
轟擊時在表面或近表面捕集的氬。

  離子轟擊和1000℃加熱的清洗循環的結果如下：
  （a)在離子轟擊和加熱以后，表面是非化學計量的——可能有
著過量的碳，在高真空下長時間加熱可能由于游離碳或其他來自
體內的雜質的擴散而得到表面情況惡化的結果。
  （b）若樣品吸附氧后在壓力為10毫米水銀柱數量級的氧氣中
或在真空中相繼加熱，碳很顯著地從表面去除掉。
  在所得到的適宜條件下，N型樣品的功函數決定于所給與的正
確的熱處理在4.30電子伏和4.40電子伏之間，而一個P型樣品有
著4.62電子伏的功函數，當清洗過樣品在室溫下暴露于氧氣中的
10毫米水銀柱數量級壓力下，可以觀察到功函數的增加和光電產
紡的減少，曾經注意到功函數隨吸附作用而變化的兩種方式，在
某些面上看到迅速增加，功函數的表現平衡值大約高于清洗表面
0.40電子伏。
  兩種吸附方式之間的差別是這樣的，認為它們是和原子種類的
非對稱性相聯系的，這種非對稱性可以存在于二元晶體的相反的
面上，這種見解由于觀察到在同一晶體相反的同上有兩種不同方
式所證實了，因此，若在某些面上，硅在外層為主要的，相反的
面則為碳，可以預料有著兩種吸附方式，從已知硅的吸附性質，
需要循環過程的面似乎會是那些有著碳的外層的面，已經觀察到
相反面上的腐蝕速率的差別，但是對于這種材料象對其他二元化
合物一樣，明確地鑒定其合適的原子種類的努力尚末成功。
  隨著氧吸附后，發現在真空中加熱，至低達500℃時能夠部分
的恢復清洗表面的情況，由此提示，由于揮發性氧化物的揮以產
生了一些去除作用。

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