本文標題："金相制樣-多數(shù)試樣要求研磨到600號SiC砂紙"
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金相制樣-多數(shù)試樣要求研磨到600號SiC砂紙
多數(shù)試樣要求研磨到600號SiC砂紙級，但也有少數(shù)用較粗砂紙作最
后磨削取得成功的例子。通常，機械拋光得越細，化學(xué)拋兕所需的
時間就越短，因而降低廠點蝕和其它優(yōu)先浸蝕的可能性。有時試樣
表面生有一層薄髓，需以特制溶液清除。有關(guān)問題(如果存在)的注
解，化學(xué)拋光同電解拋光有許多類似之處．是一個受控腐蝕過程。
溶液中所含硝酸或過氧化氫等氧化劑便代替了電解拋光中的電流。
陰離子用于溶解在控制速率下生成的薄膜。從許多金屬拋光液系統(tǒng)
的實驗證實，表面膜可在拋光過程中形成。由于溶液的強氧化性，
此膜為氧化物或氫氧化物。在試樣浸入非攪拌的條件，粘性層清晰
可見。有些可見到氣體逸出，表示拋光正在進行中。Jacquet在闡
述電解拋光時提出的粘性膜理論，看來似乎很適合于大多數(shù)化學(xué)拋
光溶液。在鋁及其它可產(chǎn)生表面鈍化的金屬化學(xué)拋光時，表面鈍化
膜所起作用已作為首要因素被提了出來。特定金屬在專用溶液中表
面的均勻溶解，是由于氧化鈍化膜或粘性擴
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